Geteilte Einrichtung der TDSU 1 und TDSU 3
Temperatur 21°C ±1K, Luftfeuchtigkeit 50% ±10%
ISO Klassen 5/6/7
Bereiche der Nanofabrikation:
Lithographielabor
Chemielabor der Photolithographie
Abscheidungslabor
Trockenätzlabor
Chemielabor mit ausgewiesenem HF Arbeitsbereich