Lithographieverfahren werden typischerweise dafür verwendet eine gewünschte Struktur zu belichten. Die Probe wird dabei mit dem Lack, der auf die benutzte Strahlung sensitiv reagiert, beschichtet und danach mit der entsprechenden Strahlung belichtet. Nach der Entwicklung der Probe ist die gewünschte Struktur in den Lack übertragen und kann in dieser Form weiter prozessiert werden.

Die TDSU 1 bietet verschiedene Möglichkeiten für die Lithographie, basierend auf der Belichtung mit Elektronen oder Photonen. Neben dem Mask Aligner MA6Gen4 für Kontakt- und Proximitybelichtung stehen auch zwei direkt schreibende Systeme zur Verfügung (Elektronenstrahllithographie Raith 150two und eine Laserlithografie DWL 66+).