Anlagen

Die TDSU 1 betreibt verschiedene Anlagen zur Herstellung und Inspektion, welche sich sowohl innerhalb als auch außerhalb des Reinraums befinden. Folgende Verfahren sind in der TDSU1 angesiedelt: Lithographie (Elektronenstrahl- und optische Lithographie), Trockenätzen (reaktives und induktiv gekoppeltes Plasma- bzw. Kryo-Ätzen), Beschichtung (Atomlagenabscheidung, plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung, Thermische und Elektronenstrahl-Verdampfung, Sputterbeschichtung) und Charakterisierung (u.a. Rasterelektronenmikroskopie, Focused Ion Beam).